天博我国首款！华中大团队成功研发计算光刻EDA软件—新闻—科学网

近日，华中科技年夜学机械学院刘世元传授团队乐成研发出我国首款彻底自立可控的OPC软件，并已经于相干企业实现结果转化以及财产化，弥补了海内空缺。

光刻成像道理图

OPC是芯片设计东西EDA工业软件的一种，没有这类软件，纵然有光刻机，也造不出芯片。从根蒂根基研究到财产化运用，咱们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到打造的洽商问题。

据刘世元先容，光刻是芯片打造中最为要害的一种工艺，就是经由过程光刻成像体系，将设计好的图形转移到硅片上。跟着芯片尺寸不停缩小，硅片上的暴光图形会孕育发生畸变。于90nm以至180nm如下芯片的光刻打造前，都必需接纳一类名为OPC（光学临近校订）的算法软件举行优化。没有OPC，所有IC打造厂商将掉去将芯片设计转化为芯片产物的威力。

计较光刻OPC道理图

今朝，全世界OPC东西软件市场彻底由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司占领。

刘世元是华中科技年夜学集成电路丈量设备研究中央、光谷试验室集成电路丈量检测技能立异中央主任。他晚年师从原华中理工年夜黉舍长、闻名机械学家杨叔子院士，在1998年获工学玻士学位。

2002年，刘世元于学院调派下，作为最早的几个技能主干之一，加盟上海微电子设备有限公司（SMEE），负担国度863庞大专项 100nm光刻机 研制使命，为整体构成员、节制学科卖力人。经由过程3年多的奋斗，他组建了SMEE第一个节制项目试验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、暴光剂量等同步节制的技能难题。

20年前我介入国度庞大专项100nm光刻机的研制，回到黉舍后，我就始终于从事计较光刻方面的研究事情，对峙做根蒂根基的研究，做要害技能的�첩攻关。 2005年，从上海回到黉舍以后，刘世元于探索中逐渐找准了本身的学术定位：面向IC打造需求，安身进步前辈光刻与纳米丈量根蒂根基理论及学术前沿开展研究。2010年头，他明确选定了两个主攻研究标的目的：面向IC纳米打造的计较光刻与计较丈量。十多年来，他以及团队于该范畴的根蒂根基理论与技能立异上做了很多事情，接踵得到海内外学术界以及财产界偕行的器重以及承认。

2013年，我第一次赴日本京都到场第6届国际光谱椭偏学年夜会，其时还只能当听众。到了2016年，于德国柏林召开的第7届国际光谱椭偏学年夜会上，我应邀做了年夜会主题陈诉，成为该学术集会开办23年来第一名做年夜会主题陈诉的华人学者。 刘世元回忆道。如今，刘世元专一集成电路计较光刻的根蒂根基研究已经有20余年。刘世元团队对峙最底层的代码一行行敲、最根蒂根基的公式一个个算，终究制造出自立可控的OPC软件算法。

刘世元暗示，但愿本身的研究结果可以或许终极转化成产物，为国度以及社会成长作孝敬。此后，他将领导团队以及他所创建的宇微光学软件有限公司加速产物推广程序，加速进入海内外芯片打造厂商市场，力争成为全世界芯片财产链中主要的一环。

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